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今日はちゃんと(?)研究室へ。 先週末、蒸着装置の膜厚校正のための基板試料作製に失敗したので、また作製することに。今日はフォトリソを行った。

セミコクリーンで基板を洗ったあと、HMDSを塗り、その後TSMR8900を塗った...レジストがはじかれてる...基板洗浄がうまくいってなかったようだ。 レジストを塗った8枚中、8枚とも失敗していた。 そのうち7枚はかろうじて使えそうだったので、仕方なくそのままフォトリソを行った。 現像してみたところ、まぁ使えそうだった。

基板のSiウェハが古いものなので、表面がけっこう汚れていたのかも知れない。 基板洗浄はちゃんと行わないといけないなぁ。

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テーマ:科学、化学
ジャンル:学問・文化・芸術
コメント
この記事へのコメント
わっ!!
セミコクリーン使ってる~~~!!!
2006/12/08(Fri) 16:06 | URL | セミコジャパン | 【編集
> セミコジャパンさん
実は、今は使ってなかったりします...
2006/12/10(Sun) 06:04 | URL | nobby | 【編集
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